엔비디아, 2020 GPU에 7nm EUV 노드 구현 | 기술력 - 엔비디아

엔비디아, 2020 GPU 용 7nm EUV 노드 구현



NVIDIA will implement the 7 nanometer EUV (extreme ultraviolet) lithography to build its future generation of GPUs slated for 2020, according to Japanese publication MyNavi.jp. The GPU giant could be among the first customers besides IBM, to contract Samsung for 7 nm EUV mass-production of GPUs. IBM will use the Korean semiconductor giant for manufacturing Z-series processors and FPGAs. Samsung announced in October 2018 that it will begin risk-production on its 7 nm EUV node in early-2019.

2018 년의 이전 보고서는 또한 엔비디아가 2019 GPU 라인업에 TSMC의 7nm DUV (심 자외선) 노드를 구현할 것으로 예측했다. 2020 년 7nm EUV에서 삼성과 함께 일하고있는 회사에 대한 소식이 나올 가능성은 낮다. NVIDIA는 차세대 GPU 라인업을 TSMC 7nm DUV와 Samsung 7nm EUV로 분리 할 수 ​​있으며, 후자는 노드 수가 더 높은 트랜지스터 수를 이용하여 더 높은 트랜지스터 수의 칩에 사용됩니다.


Source: MyNavi.jp